气相沉积法制备含酞菁铜聚酰亚胺薄膜的光电性能

• 作者: 任驹 侯超奇 汪远 郑建邦
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 非线性光学材料 酞菁铜 聚酰亚胺 气相沉积
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 338-341,349
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.01
• 字数: 3116字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2005.04.019

摘要

在2×10-3Pa真空度下,以酞菁铜、均苯四甲酸酐和二氨基二苯醚为原料,通过控制三源单体的加入摩尔计量、加热时间和沉积速率,在玻璃衬底上合成了含酞菁铜的聚酰胺酸,再经150℃～200℃真空加热亚胺化1 h后得到了成膜性良好的均匀含酞菁铜聚酰亚胺薄膜.红外谱图证实了所合成产物的结构,紫外-可见光吸收分析表明含酞菁铜聚酰亚胺薄膜在可见光区、近红外区具有较强的吸收,热失重分析表明所制备的含酞菁铜聚酰亚胺具有良好的热稳定性能;用简并四波混频方法测得薄膜的三阶非线性极化率为1.984×10-9esu,表现出良好的三阶非线性特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑建邦	西北工业大学理学院	31	268	8.0	15.0
2	任驹	西北工业大学理学院	11	192	6.0	11.0
3	汪远	西北工业大学理学院	2	9	1.0	2.0
4	侯超奇	西北工业大学理学院	5	86	4.0	5.0