电离辐射对集成电路的影响

• 作者: 朱卫良 杜迎 蔡荭
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 电离辐射 MOS电路 双极电路
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 测试与可靠性
• 页码范围: 23-27,16
• 页数: 6页
• 分类号: TL8
• 字数: 3623字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2005.07.006

摘要

本文描述了电离辐射对硅器件影响的机理.对试验后的数据进行了分析,指出电离辐射对双极电路、MOS电路、CMOS电路的影响结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜迎	中国电子科技集团公司第五十八研究所	18	93	6.0	8.0
2	蔡荭	中国电子科技集团公司第五十八研究所	8	45	5.0	6.0
3	朱卫良	中国电子科技集团公司第五十八研究所	19	108	6.0	9.0