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摘要:
光学光刻技术在微细加工和集成电路(IC)制造中一直是主流技术.随着IC集成度的提高,要求越来越高的光刻分辨力,但光学光刻的分辨极限受光刻物镜数值孔径(NA)和曝光波长(λ)的限制.激光干涉光刻技术具有高分辨、大视场、无畸变、长焦深等特点,其分辨极限为λ/4,在微细加工、大屏幕显示器、微电子和光电子器件、亚波长光栅、光子晶体和纳米图形制造等领域有广阔的应用前景.阐述了激光干涉光刻技术的基本原理.提出了一种采用梯形棱镜作为波前分割元件的激光干涉光刻方法.建立了相应的曝光系统,该系统可用于双光束、三光束、四光束和五光束等多光束和多曝光干涉光刻.给出了具有点尺寸约220nm的周期图形阵列的实验结果.
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文献信息
篇名 采用梯形棱镜波前分割的激光干涉光刻技术
来源期刊 应用激光 学科 工学
关键词 激光干涉光刻 波前分割 光刻技术 微细加工
年,卷(期) 2005,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 325-326,338
页数 3页 分类号 TN2
字数 1477字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-372X.2005.05.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘娟 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 43 249 9.0 13.0
2 张锦 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 26 204 8.0 13.0
3 冯伯儒 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 30 293 9.0 16.0
传播情况
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激光干涉光刻
波前分割
光刻技术
微细加工
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应用激光
双月刊
1000-372X
31-1375/T
大16开
上海市宜山路770号
4-376
1980
chi
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