二代近帖聚焦像增强器纳秒响应技术

• 作者: 徐江涛
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 近帖聚焦像增强器 光电阴极 纳秒响应
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 22-23
• 页数: 2页
• 分类号: TN223
• 字数: 1947字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2005.01.006

摘要

从理论上对光电阴极面发射电子过渡过程进行分析,光电阴极面电阻是影响光电发射过渡过程的主要因素.通过对光电阴极制备技术的改进,使二代近帖聚焦像增强器的管子时间响应小于2ns.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐江涛	西安应用光学研究所二室	21	106	6.0	9.0