粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响

• 作者: 姚志华 曹健林 杨雄 金春水
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 极紫外投影光刻 掩模 粗糙度 反射光谱 多层膜
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 微细加工技术
• 页码范围: 80-83
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3269字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2005.10.021

摘要

基于Nevot-Croce模型,计算了一系列具有粗糙界面的极紫外投影光刻掩模的反射光谱.通过拟合计算结果,得到了峰值反射率、带宽和中心波长与粗糙度的函数关系.根据光刻系统对照明均匀性的要求,讨论了在相同粗糙度变化范围内,分别由峰值反射率、带宽和中心波长引起的照明误差.结果表明,粗糙度对极紫外投影光刻掩模的峰值反射率影响最大.当掩模粗糙度为0.85±0.04nm时,峰值反射率将产生±0.9% 的波动,并由此产生±1.5% 的照明误差.为保证由峰值反射率导致的照明误差小于±1%,极紫外投影光刻掩模的粗糙度必须控制在±0.025nm以内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	56	202	9.0	11.0
2	曹健林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	37	328	10.0	17.0
3	姚志华	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	2	4	1.0	2.0
7	杨雄	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	7	28	4.0	5.0