对光电系统中的光学系统二次成像的分析计算

• 作者: 明景谦 曹红曲 李力 金宁
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 二次成像 鬼像 像平面
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 系统与设计
• 页码范围: 375-378
• 页数: 4页
• 分类号: TN911.73
• 字数: 2672字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2005.05.007

摘要

在光电成像系统中,二次成像对正常图像影响较大,轻者降低系统灵敏度,重者产生虚假信号,影响观察.因此消除或降低二次成像对光电成像系统的影响,就成为光学设计的一个重要环节,使用光学设计软件CODE V可以对光学系统的二次成像进行分析和控制,确保光学系统本身的二次成像影响降到最低,满足系统使用要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金宁		13	123	8.0	11.0
2	曹红曲		3	41	3.0	3.0
3	李力		1	11	1.0	1.0
4	明景谦		4	57	4.0	4.0