硅基SiO2平面光波导中硼磷硅玻璃覆盖层的制备和研究

• 作者: 刘文 江征风 胡业发 陈思乡
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 工学
• 关键词: 平面光波导 硼磷硅玻璃 等离子体增强化学气相沉积 台阶覆盖
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 390-393
• 页数: 4页
• 分类号: TN713
• 字数: 3799字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2005.05.018

摘要

利用等离子体增强化学气相沉积方法,在SiH4/N2O反应气体中掺入PH3和B2H6制备了用于硅基SiO2平面光波导的硼磷硅玻璃覆盖层.分析了磷掺杂和硼掺杂对折射率的影响,提出了选择掺杂气体流量匹配折射率的方法.研究了退火温度和气氛对膜层性能的影响,高温退火使膜层的折射率趋于稳定,对光的吸收损耗减小;采用氧气退火可以抑制和消除氮气退火时膜层中出现的不透明的微晶粒,改善膜层质量.采用多步沉积退火方法,消除了台阶覆盖中出现的空洞和气泡,得到了台阶的覆盖性和覆盖平坦度都较好的硼磷硅玻璃膜层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡业发	武汉理工大学机电工程学院	177	1769	21.0	31.0
2	江征风	武汉理工大学机电工程学院	93	653	14.0	17.0
3	刘文		9	68	5.0	8.0
4	陈思乡	武汉理工大学机电工程学院	4	18	3.0	4.0