SiO2平面光波导的PECVD制备和膜层特性研究

• 作者: 刘文 江征风 胡业发 陈思乡
• 来源期刊: 光通信研究
• 学科: 工学
• 关键词: 平面光波导 SiO2波导 等离子体增强化学汽相沉积
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 68-70
• 页数: 3页
• 分类号: TN814.6
• 字数: 2359字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-8788.2005.05.019

摘要

研究了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)的光波导膜层的光学特性,论述了沉积工艺参量和退火处理对膜层性能的影响,优化工艺获得了高质量的波导膜层,成功设计制作了在1 550nm中心波长损耗低于0.1db/cm的平面光波导和阵列波导光栅(AWG)器件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡业发	武汉理工大学机电工程学院	177	1769	21.0	31.0
2	江征风	武汉理工大学机电工程学院	93	653	14.0	17.0
3	刘文		9	68	5.0	8.0
4	陈思乡	武汉理工大学机电工程学院	4	18	3.0	4.0