1.06 μm连续激光辐照TiO2/SiO2/K9薄膜元件温升规律研究

• 作者: 周维军 桂元珍 沈志学 袁永华
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 连续激光 薄膜元件 温度场 数值模拟
• 年，卷（期）: 2005,（9）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 1307-1311
• 页数: 5页
• 分类号: TN216
• 字数: 2025字
• 语种: 中文

摘要

利用1.06 μm连续激光在不同强度下辐照TiO2/SiO2/K9薄膜元件,实验中用红外热像仪测量激光辐照在TiO2/SiO2/K9元件表面引起的温升随时间的变化,通过数据处理,获得激光辐照区域最高温度随辐照时间的增加而增加.同时,给出材料温升随材料发射率的变化关系.并用程序模拟不同激光强度下薄膜温度场的分布,通过实验测量数据校正数值模拟计算结果,给出TiO2/SiO2/K9薄膜元件温度随激光辐照强度和辐照时间的变化规律.并且获得在薄膜厚度方向:薄膜表面温度最高,基底与薄膜接触处温度最低;沿径向:激光辐照中心温度最高,边沿温度最低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周维军	中国工程物理研究院流体物理研究所	18	87	7.0	8.0
2	沈志学	中国工程物理研究院流体物理研究所	24	115	5.0	9.0
3	袁永华	中国工程物理研究院流体物理研究所	17	99	6.0	9.0
4	桂元珍	中国工程物理研究院流体物理研究所	5	43	4.0	5.0