一种获得半导体薄膜光学参数的方法

• 作者: 刘涌 宋晨路 汪建勋 韩高荣
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 半导体薄膜 色散关系 模拟退火法 光学参数
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 光学材料
• 页码范围: 907-909
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 2120字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2005.06.013

摘要

实现薄膜光学参数的简便测量对于薄膜的制备和应用具有重要意义.引入适用于半导体材料的Forouhi-Bloomer模型,用其表征薄膜折射率与色散的关系.考虑到粗糙度的影响,假设薄膜厚度服从正态分布,给出了模拟退火法与迭代法相结合、由可见光光谱测定薄膜光学参数的方法.作为尝试,以硅系薄膜为例进行了计算.结果表明,获得的厚度与用椭偏仪测量的结果较为吻合.该方法适用于研究和测量半导体薄膜的光学性能和膜厚,具有很高的实用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室	187	1971	24.0	35.0
2	汪建勋	浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室	20	263	8.0	16.0
3	宋晨路	浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室	37	372	10.0	18.0
4	刘涌	浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室	18	59	5.0	6.0