低碳钢表面正硅酸四乙酯聚膜的耐蚀性

• 作者: 李文辉
• 来源期刊: 宝鸡文理学院学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 正硅酸四乙酯 聚合膜 烘烤 化学吸附机理 抑制效应
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 理论研究
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: O646.6|TG174.4
• 字数: 3599字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-1261.2005.01.013

摘要

用自腐蚀(FC)、X射线光电子能谱(XPS)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)和电化学(EC)等方法,研究了低碳钢表面在不同烘烤温度下直接聚合正硅酸四乙酯(TEOS)成膜的覆盖层在3.5%NaCl水溶液中的耐蚀性能.结果表明,TEOS聚合膜具有较高的势垒效应,高温烘烤时,该聚合膜的烃基与氢氧化铁有效缩聚成膜,呈现化学吸附机理,且致密性和耐蚀性好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文辉	湖北理工学院化学工程系	3	1	1.0	1.0