纳米硅薄膜的镜反射红外光谱研究

• 作者: 刘晓晗 吴则嘉 张林春 张毅 杨晟远 赵涛 陈英颖
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 物理学
• 关键词: 镜反射 纳米硅薄膜 衬底温度 直流电压 掺杂浓度 本征 掺杂
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 实验技术与方法
• 页码范围: 79-82
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5|O433.5
• 字数: 3187字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2005.02.007

摘要

研究探讨了镜反射红外光谱在纳米材料方面的应用.通过等离子化学气相沉积法(PECVD),制备本征和掺磷的纳米硅薄膜(nc-Si:H),利用镜反射红外光谱研究了本征和掺磷的纳米硅薄膜的光谱特征.通过实验,发现这两种薄膜中都存在多氢键合方式,PECVD工艺参数如衬底温度、直流电压和掺杂浓度对薄膜结构具有一定的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴则嘉		4	24	2.0	4.0
2	刘晓晗		4	24	2.0	4.0
3	杨晟远		4	24	2.0	4.0
4	张林春		4	24	2.0	4.0
5	张毅	上海宝钢股份有限公司分析测试中心	10	228	8.0	10.0
6	陈英颖	上海宝钢股份有限公司分析测试中心	6	49	4.0	6.0
7	赵涛	上海宝钢股份有限公司分析测试中心	2	7	2.0	2.0