过饱和度和温度对6-氨基青霉烷酸生长晶习的影响

• 作者: 王静康 龚俊波
• 来源期刊: 化学工业与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 晶习 6-氨基青霉烷酸(6APA) 过饱和度 温度
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 157-160
• 页数: 4页
• 分类号: TQ026.1
• 字数: 3233字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-9533.2005.03.001

摘要

对于6-氨基青霉烷酸(简称6APA)晶体在溶液中的生长,在不同物理化学环境下可得到不同的晶习,试验考察了过饱和度以及温度对6APA生长晶习的影响.通过测定6APA晶体结构,分析6APA晶体不同晶面的分子堆积,定性解释了过饱和度以及温度引起6APA生长晶习变化的原因,可为6APA生产工业放大提供了理论和试验依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王静康	天津大学化工学院	118	1652	24.0	35.0
2	龚俊波	天津大学化工学院	43	238	9.0	14.0