高精度光刻物镜的变形研究

• 作者: 程刚 蒋世磊 雷江
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻物镜 变形分析 有限元分析
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 微电子光刻
• 页码范围: 12-14
• 页数: 3页
• 分类号: TB851|TN305.7
• 字数: 1410字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2005.02.004

摘要

高精度光刻物镜是微电子光刻专用设备中的关键部件之一,不仅要求光刻物镜的精度高,还要尽可能地减小装调误差.根据193nm光刻物镜的光学零件结构尺寸,利用大型有限元分析软件Algor和材料力学的应力变形理论,求得了结构形式与重力变形关系,支撑方式与变形的关系,材料不同时的变形趋势图,为整个光刻物镜的装配和调校提供了依据.研究表明,非均匀支撑是引起重力变形的主要原因,在物镜口径(300mm时采用9点以上支撑方式其最大变形量基本恒定,并可预留加工"误差"补偿重力变形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程刚	中国科学院光电技术研究所	24	339	11.0	18.0
2	蒋世磊	中国科学院光电技术研究所	13	122	7.0	10.0
3	雷江	中国科学院光电技术研究所	3	12	1.0	3.0