纳米氧化层在PtMn基镜面反射Spin Valve磁性薄膜中的作用和结构特征

• 作者: 陈立凡
• 来源期刊: 南昌大学学报（理科版）
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米氧化层 自然氧化 等离子氧化 CoFe晶体
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 251-253,257
• 页数: 4页
• 分类号: TF111.14
• 字数: 2446字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-0464.2005.03.013

摘要

系统地研究了纳米氧化层(NOL)在PtMn基镜面反射Spin Valve磁性薄膜中的作用和其结构特征.研究发现,自然氧化和等离子氧化形成的NOL应用在Spin Valve磁性薄膜中,能够提高30%Spin Valve薄膜巨磁阻(GMR)变化率ΔR/R,其中等离子氧化所形成的NOL在Spin Valve薄膜中的电子反射效应要比自然氧化的NOL大得多.此外,在形成NOL的氧化过程中,氧气的辐照剂量是NOL形成的重要影响因素.首次利用高分辨电子显微镜技术在原子结构像的水平上提示了NOL在不同氧化条件下的原子结构特征.研究发现,在形成NOL的氧化过程中,氧气的辐照剂量之所以关键,是由于它的大小关系到NOL中其原子结构是否变形甚至被破坏,从而影响电子反射效率,以及最终影响到巨磁阻变化率ΔR/R.实验表明,只有将那些晶体结构在氧化过程中没有任何变形或只有少许轻微的变形的NOL应用到Spin Valve磁性薄膜中,才能获得最高的巨磁阻变化率ΔR/R.对于本研究中的自然氧化和等离子氧化所形成的纳米氧化层(NOL)而言,等离子氧化形成的NOL正具备了此结构特征.