小像素CCD的关键技术进展

• 作者: 吴纬国 姚若河 张炜华 敬小成 朱建培
• 来源期刊: 中国集成电路
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 应用
• 页码范围: 87-89
• 页数: 3页
• 分类号: TN4
• 字数: 2261字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-5289.2005.01.020

摘要

随着CCD像素的不断增加,像素的尺寸不断减小,使用新的方法来提高每个像素的电荷处理能力,进一步减小各种噪声是小像素CCD的主要技术方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚若河	华南理工大学应用物理系	126	611	11.0	18.0
2	朱建培	华南理工大学应用物理系	3	5	1.0	2.0
3	敬小成	华南理工大学应用物理系	4	13	2.0	3.0
4	张炜华	华南理工大学应用物理系	4	5	1.0	2.0
5	吴纬国		2	0	0.0	0.0