纳米级高压扫描电子束曝光技术

• 作者: 彭开武 田丰
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 高压扫描电子束曝光机 纳米图形 透射电子显微镜
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 244-248
• 页数: 5页
• 分类号: TN405
• 字数: 3944字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2005.05.011

摘要

通过简单添加一些附件,将一台带有扫描附件的商用透射电子显微镜改造为一台高压扫描电子束曝光机,以研究高压下高分辨率、高深宽比抗蚀剂图形曝光及邻近效应的影响.重点介绍了如何获得一个高分辨率的电子光学系统,并利用此系统初步进行了曝光实验,在120 nm厚的PMMA胶上获得了53 nm线宽的抗蚀剂图形,表明此装置可用于纳米图形的制作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田丰	中国科学院电工研究所	49	422	10.0	20.0
2	彭开武	中国科学院电工研究所	3	3	1.0	1.0