处理电压对钛合金微弧氧化膜相结构的影响

• 作者: 于文学 吴汉华 汪剑波 龙北玉 龙北红
• 来源期刊: 吉林大学学报（理学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 钛合金 处理电压 相结构
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 物理
• 页码范围: 190-193
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.53
• 字数: 2606字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-5489.2005.02.014

摘要

在Na2CO3-Na2SiO3溶液中, 采用正负不对称的专用交流高压电源制备了钛合金微弧氧化膜. 利用X射线衍射研究了处理参数(阴、阳极峰值电压, 处理时间等)对微弧氧化膜相结构的影响. 实验结果表明, 氧化膜主要由金红石和锐钛矿的TiO2及少量不饱和氧化的Ti6O11(TiO1.83)相组成, 它们在氧化膜中各自所占的比例受处理时间和阴、阳极峰值电压的影响较大. 当阴、阳极峰值电压分别控制在45 V和320 V, 处理时间为30 min时, 氧化膜中金红石TiO2的含量最高, 达到80%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙北玉	吉林大学物理学院信息与计算机物理系	14	187	8.0	13.0
2	吴汉华	吉林大学原子与分子物理研究所	34	439	12.0	20.0
6	龙北红	吉林大学材料科学与工程学院材料科学系	10	185	6.0	10.0
10	汪剑波	吉林大学原子与分子物理研究所	12	247	8.0	12.0
11	于文学	吉林大学材料科学与工程学院材料科学系	14	94	6.0	9.0