异质外延立方氮化硼薄膜的微结构研究

• 作者: Boye H-G ZIEMANN p 张兴旺 陈诺夫
• 来源期刊: 电子显微学报
• 学科: 工学
• 关键词: 立方氮化硼 异质外延 金刚石 透射电子显微镜
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 23-28
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1|TB34|TG115.21+5.3
• 字数: 2258字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6281.2005.01.005

摘要

利用离子束辅助沉积技术在金刚石薄膜衬底上制备立方氮化硼薄膜,傅立叶变换红外谱的结果表明,在高度(001)织构金刚石薄膜衬底上沉积的立方氮化硼薄膜是纯的立方相,而在多晶金刚石薄膜衬底上制备的立方氮化硼薄膜中还含少量的六角氮化硼.高分辨透射电镜的分析表明,在金刚石晶粒上异质外延的c-BN直接成核于金刚石衬底,界面没有六角氮化硼过渡层;而在含有大量缺陷的晶粒边界,存在六角氮化硼的成核与生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张兴旺	中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室	30	153	8.0	10.0
2	陈诺夫	中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室	33	154	6.0	11.0