离子束清洗在激光薄膜中的应用

• 作者: 张东平 张大伟 王英剑 范正修 范瑞瑛 邵建达
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光薄膜 离子束清洗 离子源 损伤阈值
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 238-240
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+1|TN249
• 字数: 2759字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2005.02.016

摘要

介绍了在激光薄膜中End-Hall型离子源离子束清洗的应用.通过实验验证了基片的二次污染和离子束的清洗效果,观测了离子束清洗前后基片的表面形貌变化.研究了用离子束清洗基片时对薄膜抗激光损伤阈值的作用.分析了用离子束清洗基片时其基片表面的性质,如清洁度、表面能、接触角、表面形貌的变化机理.指出了杂质微粒的去除和附着力的增加是如何使薄膜抗激光损伤阈值显著提高的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范瑞瑛	中国科学院上海光学精密机械研究所	15	377	9.0	15.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	王英剑	中国科学院上海光学精密机械研究所	21	254	11.0	15.0