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摘要:
本文根据SiC晶体PVT生长炉的实际提出了生长系统温度场计算的流体力学模型,采用有限元法分析了生长腔内的热传导、辐射和对流对生长腔内和生长晶体中温度空间分布的影响.通过对生长腔内及生长晶体中温度瞬态和稳态分布的分析,得出在加热的初始阶段腔内气体对流对坩埚内的温度分布有较大影响,在系统热平衡后辐射对腔内温度分布起决定作用的结论.
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文献信息
篇名 SiC晶体PVT生长系统的流体力学模型及其有限元分析
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 SiC晶体 PVT法 流体力学模型 温度场
年,卷(期) 2005,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 828-832
页数 5页 分类号 O782
字数 2858字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.05.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈治明 西安理工大学自动化与信息工程学院 83 498 11.0 18.0
2 李留臣 西安理工大学自动化与信息工程学院 25 153 8.0 11.0
3 蒲红斌 西安理工大学自动化与信息工程学院 33 119 7.0 9.0
4 封先锋 西安理工大学自动化与信息工程学院 22 106 7.0 9.0
5 张群社 西安理工大学自动化与信息工程学院 9 71 5.0 8.0
6 巩泽龙 西安理工大学自动化与信息工程学院 1 19 1.0 1.0
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PVT法
流体力学模型
温度场
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期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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16
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38029
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