Zr-Si-N扩散阻挡层及其热稳定性的研究

• 作者: 丁黎 宋忠孝 徐可为 陈华
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: Zr-Si-N 扩散阻挡层 热稳定性
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 459-462
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 2153字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.03.031

摘要

用反应磁控溅射法在不同偏压下沉积了Zr-Si-N扩散阻挡层,结果表明:Zr-Si-N膜的Si含量、电阻率随偏压的升高而降低;Zr-Si-N膜的晶体相随溅射偏压的升高而增加;Zr-Si-N扩散阻挡层的热稳定性高,在850℃时仍能有效阻挡Cu的扩散.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐可为	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	238	3333	30.0	44.0
2	陈华	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	17	327	10.0	17.0
3	宋忠孝	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	30	143	8.0	11.0
4	丁黎		1	12	1.0	1.0