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摘要:
采用磁控溅射法,制备了超薄MoN扩散阻挡层,并对Cu/MoN/Si体系进行真空退火。用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)进行薄膜电性能和微结构表征。分析结果表明,MoN作为Cu扩散阻挡层结构具有良好的热稳定性,失效温度达到600℃,明显优于Mo扩散阻挡层。
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文献信息
篇名 超薄MoN扩散阻挡层的扩散阻挡性能分析
来源期刊 四川理工学院学报:自然科学版 学科 工学
关键词 磁控溅射 MoN 扩散阻挡层 热稳定性
年,卷(期) 2012,(5) 所属期刊栏目 化学、生物及材料科学
研究方向 页码范围 15-18
页数 4页 分类号 TQ153.6
字数 1241字 语种 中文
DOI
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘春海 1 0 0.0 0.0
2 王龙 1 0 0.0 0.0
3 崔学军 1 0 0.0 0.0
4 金永中 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
MoN
扩散阻挡层
热稳定性
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期刊影响力
四川理工学院学报(自然科学版)
双月刊
1673-1549
51-1687/N
四川省自贡市汇兴路学苑街180号
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