iPOLAR^TM在双极型器件中的应用

• 作者: CraigD．Wilson
• 来源期刊: 电子元器件应用
• 学科: 工学
• 关键词: 双极型 美国模拟器件公司 制造工艺 工业应用 再设计 耐高压 面积比
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 页码范围: 57-58
• 页数: 2页
• 分类号: TN322.8

摘要

美国模拟器件公司(简称ADI)的iPOLAR^TM制造工艺的推出，代表了近20年来．业界对36V双极型工艺进行的最重大的再设计。这种新的iPOLAR工艺适合于需要耐高压双极型模拟器件的工业应用，采用iPOLAR工艺的芯片面积比老的双极型减小。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	CraigD．Wilson	美国模拟器件公司ADSiV工艺开发部	2	0	0.0	0.0