纳米多孔二氧化硅薄膜的制备与表征

• 作者: 冯坚 张长瑞 杨大祥 王娟
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米多孔二氧化硅薄膜 溶胶-凝胶 正硅酸乙酯 低介电常数
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 54-56
• 页数: 3页
• 分类号: TB321|TB383
• 字数: 2635字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.01.016

摘要

以正硅酸乙酯为原料,采用酸/碱两步溶胶-凝胶法、结合匀胶和超临界干燥等工艺在硅片上成功制备了纳米多孔二氧化硅薄膜.适合匀胶的二氧化硅溶胶的粘度范围为9～15mPa·s;多孔二氧化硅薄膜表面均匀平整,其厚度为400～1000nm;折射率为1.09～1.24;介电常数为1.5～2.5.该多孔二氧化硅薄膜具有三维网络结构,二氧化硅微粒直径为10～20nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张长瑞	国防科学技术大学航天与材料工程学院	30	357	10.0	18.0
2	王娟	国防科学技术大学航天与材料工程学院	7	124	5.0	7.0
3	冯坚	国防科学技术大学航天与材料工程学院	25	198	9.0	13.0
4	杨大祥	国防科学技术大学航天与材料工程学院	2	14	1.0	2.0