原文服务方: 现代电子技术       
摘要:
在PDP驱动电路中高压功率器件大量采用了VDMOS器件,由二次击穿引起的器件损坏不容忽视.本文讨论了双极晶体管和功率晶体管VDMOS二次击穿的现象,并着重分析了功率晶体管VDMOS二次击穿的原因,提出了改善其二次击穿现象的措施.用器件仿真软件MEDICI模拟了各参数因素对功率晶体管VDMOS二次击穿的影响.
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文献信息
篇名 VDMOSFET二次击穿效应的研究
来源期刊 现代电子技术 学科
关键词 二次击穿 双极晶体管 功率晶体管VDMOS 寄生晶体管 MEDICI
年,卷(期) 2005,(4) 所属期刊栏目 微电子技术
研究方向 页码范围 114-117
页数 4页 分类号 TN322+.8
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-373X.2005.04.047
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 庄奕琪 西安电子科技大学微电子所 183 1168 15.0 22.0
2 李小明 西安电子科技大学微电子所 19 123 6.0 10.0
3 张丽 西安电子科技大学微电子所 25 178 9.0 12.0
4 姜法明 西安电子科技大学微电子所 3 20 2.0 3.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
二次击穿
双极晶体管
功率晶体管VDMOS
寄生晶体管
MEDICI
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
现代电子技术
半月刊
1004-373X
61-1224/TN
大16开
1977-01-01
chi
出版文献量(篇)
23937
总下载数(次)
0
总被引数(次)
135074
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