原文服务方: 原子能科学技术       
摘要:
脉冲激光可有效模拟重离子触发芯片的单粒子效应。本工作在应用背部激光试验方法辐照芯片时观察到了二次光斑现象,通过Si衬底和Si晶圆片研究了芯片单粒子效应实验中二次光斑的成因。实验结果表明,二次光斑主要是由于激光在芯片有源区附近的金属布线层反射形成的。通过测量芯片的Si衬底厚度以及激光触发芯片单粒子效应时的聚焦深度,实验验证了二次光斑是在金属布线层区域形成的。
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文献信息
篇名 基于脉冲激光单粒子效应的二次光斑研究
来源期刊 原子能科学技术 学科
关键词 二次光斑 脉冲激光 硅衬底 单粒子效应
年,卷(期) 2013,(12) 所属期刊栏目 技术及应用
研究方向 页码范围 2361-2364
页数 4页 分类号 TN4
字数 语种 中文
DOI 10.7538/yzk.2013.47.12.2361
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 余永涛 中国科学院空间科学与应用研究中心 8 40 4.0 6.0
5 封国强 中国科学院空间科学与应用研究中心 22 139 6.0 10.0
6 上官士鹏 中国科学院空间科学与应用研究中心 12 54 4.0 6.0
7 马英起 中国科学院空间科学与应用研究中心 12 69 5.0 8.0
8 朱翔 中国科学院空间科学与应用研究中心 14 27 4.0 4.0
9 姜昱光 中国科学院空间科学与应用研究中心 5 12 2.0 3.0
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研究主题发展历程
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二次光斑
脉冲激光
硅衬底
单粒子效应
研究起点
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期刊影响力
原子能科学技术
月刊
1000-6931
11-2044/TL
大16开
北京275信箱65分箱
1959-01-01
中文
出版文献量(篇)
7198
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27955
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