基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的研制

• 作者: 张今朝 方光荣
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光 扫描电镜 对准
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 10-13
• 页数: 4页
• 分类号: TP3
• 字数: 2876字
• 语种: 中文

摘要

介绍了基于扫描电镜的电子束曝光机对准系统的原理,详细分析了此系统的硬件设计、软件设计以及扫描场的校正过程.利用硬件获取扫描图像,并进行实时标记校正,利用软件进行标记位置识别和校正参数计算,满足了曝光机对准系统在性能和精度上的要求.在100 μm扫描场下进行拼接曝光实验,达到了77.3 nm(2σ)的拼接精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方光荣	中国科学院电工研究所	32	154	7.0	10.0
2	张今朝	中国科学院电工研究所	8	16	2.0	3.0