EUV光刻中激光等离子体光源的发展

• 作者: 张福昌 李艳秋
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 极紫外光刻 激光等离子体 极紫外光功率 碎片污染
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-7,12
• 页数: 8页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5488字
• 语种: 中文

摘要

简述了获得极紫外光源的途径,系统介绍了激光等离子体(LPP)光源的发展历程,对当前Cymer公司研制的极紫外光刻设备所需LPP光源的最新研究进展做了详细阐述,最后对光源的整体发展给予了总结和展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋	中国科学院电工研究所	35	388	12.0	18.0
2	张福昌	中国科学院电工研究所	1	16	1.0	1.0