稀土La对电沉积Ni-P合金镀层工艺的影响

• 作者: 宣天鹏 杨广舟 王卫荣
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 稀土 Ni-P合金 沉积速率 电磁屏蔽
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 5-9
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 3296字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2006.02.002

摘要

研究了添加稀土La电沉积电磁屏蔽Ni-P合金镀层的工艺.在正交试验的基础上分析了镀液组成及电流密度对沉积速率的影响,综合考察了镀层表面质量及镀层与基体的结合力.结果表明:在镀液中加入微量稀土La,金属离子的沉积速率,镀层与基体的结合力,镀液的分散能力,镀层的表面质量都有不同程度的提高,并由此得出工艺的最佳镀液组成和操作条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨广舟	合肥工业大学材料科学与工程学院	5	55	4.0	5.0
2	宣天鹏	合肥工业大学材料科学与工程学院	84	1199	19.0	28.0
3	王卫荣	合肥工业大学材料科学与工程学院	43	271	10.0	14.0