交流脉冲制备TiO2薄膜的性能研究

• 作者: 何翔 孙奉娄 陈艳
• 来源期刊: 中南民族大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 交流脉冲 等离子体化学气相沉积 TiO2薄膜
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 物理与电子信息科学
• 页码范围: 54-57
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2341字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-4321.2006.01.015

摘要

利用150kHz交流脉冲放电进行等离子体化学气相沉积(PCVD),使用Ti(OC3H7)4为源物质,在普通钠钙载玻片上制备了TiO2膜.主要考查了交流脉冲电压、反应室工作气压、气体流量、薄膜沉积温度等工艺参数对薄膜光学特性的影响.通过薄膜透过率和吸光度分析,探讨了各工艺参数对成膜品质的影响.结果表明:在载玻片上,根据不同沉积条件可制成性能不同的TiO2薄膜,均有光催化特性且附着力好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙奉娄	中南民族大学等离子体研究所	76	434	13.0	15.0
2	陈艳	中南民族大学等离子体研究所	8	52	3.0	7.0
3	何翔	中南民族大学等离子体研究所	62	386	11.0	15.0