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摘要:
采用磁控溅射法制备锰铜薄膜,溅射和真空蒸发法制备镱薄膜.对热处理前后薄膜的电学性能、微观形貌和结构进行了表征,并采用轻气炮和对顶砧装置对薄膜传感器进行了压阻性能测试,结果表明热处理后薄膜的压阻系数有很大提高.SEM和XRD的分析表明,压阻系数的提高是由于热处理后薄膜晶粒长大、缺陷减少、电阻率下降所致.敏感薄膜的电阻率与传感器的灵敏度直接相关.热处理后,薄膜压阻计的灵敏度已接近箔式传感器的水平,热处理是提高薄膜压阻计灵敏度的有效手段.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 热处理对金属薄膜压阻灵敏度的影响
来源期刊 功能材料 学科 工学
关键词 压阻系数 锰铜 薄膜 微观结构
年,卷(期) 2006,(9) 所属期刊栏目 研究与开发
研究方向 页码范围 1426-1428
页数 3页 分类号 O521.3|TB43
字数 2160字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1001-9731.2006.09.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杜晓松 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 61 434 12.0 16.0
5 杨邦朝 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 253 3422 31.0 49.0
6 滕林 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 16 88 5.0 9.0
7 宋远强 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 7 32 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
压阻系数
锰铜
薄膜
微观结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
月刊
1001-9731
50-1099/TH
16开
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
78-6
1970
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
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