退火温度对钽基RuO2·nH2O电沉积薄膜电容性能的影响

• 作者: 欧定斌 甘卫平 覃政辉 黎小辉
• 来源期刊: 中南大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 RuO2·nH2O薄膜 电容 退火温度
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 材料·矿物·冶金·化学
• 页码范围: 660-664
• 页数: 5页
• 分类号: TG154.5
• 字数: 1699字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7207.2006.04.007

摘要

以RuCl3·xH2O的水溶液为电沉积溶液, 通过恒流电沉积法在钽箔上电沉积一层RuO2·nH2O薄膜, 研究退火温度对RuO2·nH2O薄膜的电容性能的影响;采用CHI660B电化学测试仪和循环伏安法对薄膜的电容性能进行测试;分别采用扫描电子显微电镜、能谱仪及X射线衍射仪对薄膜的形貌和微孔形态、薄膜元素及薄膜的物相进行分析. 结果表明, 未经退火处理的RuO2·nH2O薄膜的电容性能不稳定, 在循环伏安法测试中电容量随循环次数的增加而降低;将RuO2·nH2O薄膜分别在不同温度(100, 150, 200, 250和300 ℃)下进行的2 h的退火处理, 经退火处理后的RuO2·nH2O薄膜的电容性能经过60次的循环后趋于稳定, 其中, 经过100 ℃退火处理的RuO2·nH2O薄膜的比电容最大, 其比电容为0.083 8 F/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	甘卫平	中南大学材料科学与工程学院	94	1388	18.0	32.0
2	黎小辉	中南大学材料科学与工程学院	3	45	3.0	3.0
3	欧定斌	中南大学材料科学与工程学院	5	56	5.0	5.0
4	覃政辉	中南大学材料科学与工程学院	2	20	2.0	2.0