声光Q开关用1.064μm融石英低损耗增透膜实验研究

• 作者: 张晓梅 谢强
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 物理学
• 关键词: 声光调Q 低损耗薄膜 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 423-425
• 页数: 3页
• 分类号: O484.41
• 字数: 2054字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2006.04.021

摘要

根据声光腔内调Q对光学薄膜的要求,对1.064 μm声光Q开关用融石英低损耗增透膜进行了初步实验研究,通过对工艺因素的比较分析,使用基本配置型国产设备得到了较好的结果.讨论了为降低薄膜损耗,提高薄膜激光损伤阈值应做的几项工作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢强		2	10	2.0	2.0
2	张晓梅		2	9	2.0	2.0