靶基距对C/Cr复合镀层厚度影响的研究

• 作者: 张国君 栾亚 蒋百灵 邓凌超
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡磁控溅射 C/Cr镀层 靶基距 厚度
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 技术应用
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 1378字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2006.01.012

摘要

以四靶闭合场非平衡磁控溅射方法制备C/Cr镀层,用球痕法测量镀层厚度,研究了镀层厚度及均匀性随靶基距的变化规律,并探讨了靶基距影响镀层厚度的机理.结果表明:靶基距对镀层厚度有明显影响;镀层厚度随靶基径向距增大而显著减小,随靶基轴向距的增加变化不大;试样放置位置越靠近真空室中心区域,镀层厚度均匀性越好;磁场空间分布和粒子迁移中的散射碰撞是导致靶基距影响镀层厚度的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	张国君	西安理工大学材料科学与工程学院	35	220	8.0	14.0
3	栾亚	西安理工大学材料科学与工程学院	4	25	3.0	4.0
4	邓凌超	西安理工大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0