基体表面粗糙度对低温磁控溅射TiN的影响研究

• 作者: 白秀琴
• 来源期刊: 三峡大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 表面粗糙度 低温磁控溅射 TiN
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 机电工程
• 页码范围: 57-60
• 页数: 4页
• 分类号: TB747
• 字数: 3255字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-948X.2006.01.015

摘要

研究了在低温磁控溅射沉积TiN薄膜过程中,基体表面粗糙度对成膜过程以及摩擦学性能的影响.研究结果表明,低温磁控溅射沉积处理一般不改变基体原始表面形貌,对基体的机加工状态有遗传性或复制性.摩擦磨损试验表明,随着基体的表面加工精度提高,表面粗糙度降低,摩擦副的磨损明显减小,摩擦因数也有减小的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	白秀琴	武汉理工大学可靠性工程研究所	61	438	12.0	19.0