液相外延温控系统与真空系统的全新设计

• 作者: 刘凯 刘洪斌 张勇 郭亮
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 温度控制 可控硅 过零触发 气体保护装置
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 737-739
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.054
• 字数: 1534字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2006.06.022

摘要

对液相外延温控系统和真空系统进行了全新的设计,温控系统运用单相可控硅过零触发技术,解决了移相触发技术中使系统电压畸变,功率因数下降的问题.并配以日本神港程序控制器,使得温度精度达到±0.1 ℃,且重复性和稳定性也相应地得到提高.真空系统加入了冲洗气体保护装置,有效地解决了以往冷阱变暖使油蒸汽反流的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭亮		1	0	0.0	0.0
2	刘洪斌		1	0	0.0	0.0
3	刘凯		1	0	0.0	0.0
4	张勇		3	1	1.0	1.0