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制造工艺低相关的AGC跨阻放大器
制造工艺低相关的AGC跨阻放大器
作者:
付先成
余国义
杜明鲜
蒋湘
邹雪城
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
模拟电路
跨阻放大器
光通信
互补金属氧化物半导体
摘要:
文章提出了一种速率为622 Mbit/s的带自动增益控制(AGC)和自动偏移补偿(AOC)的光通信用跨阻集成放大器电路.本设计采用了中芯国际0.25 μm 1P3M的标准互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺.HSPICE仿真结果表明,在各种偏差最大的工艺条件下,跨阻放大器初始增益的浮动区间为-10.2%~9.7%,而AGC的初始偏置电压的浮动区间为-0.384%~0.307%.
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谐波失真
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文献信息
篇名
制造工艺低相关的AGC跨阻放大器
来源期刊
光通信研究
学科
工学
关键词
模拟电路
跨阻放大器
光通信
互补金属氧化物半导体
年,卷(期)
2006,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
65-67
页数
3页
分类号
TN929
字数
2289字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1005-8788.2006.02.020
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
邹雪城
310
2261
21.0
31.0
2
蒋湘
4
69
3.0
4.0
4
付先成
6
64
4.0
6.0
5
余国义
20
135
6.0
10.0
8
杜明鲜
3
6
2.0
2.0
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1999(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(2)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2006(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2010(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
模拟电路
跨阻放大器
光通信
互补金属氧化物半导体
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光通信研究
主办单位:
武汉邮电科学研究院企管部
出版周期:
双月刊
ISSN:
1005-8788
CN:
42-1266/TN
开本:
大16开
出版地:
武汉市洪山区邮科院路88号
邮发代号:
创刊时间:
1975
语种:
chi
出版文献量(篇)
2524
总下载数(次)
3
总被引数(次)
10254
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