紫外光固化中阻蚀胶薄膜应力分析及成膜控制

• 作者: 丁玉成 刘红忠 卢秉恒 尹磊
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 压印光刻 阻蚀胶 基片曲率法 薄膜应力 成膜控制
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 1028-1031
• 页数: 4页
• 分类号: TH112|TH113.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2006.09.009

摘要

针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求,对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析,并采用基片曲率法的Stoney公式及其近似计算公式,对不同参数环境下的薄膜应力及应力梯度分布作了计算分析.通过对比几组试验参数的应力分析结果,验证了薄膜应力的大小和应力梯度的分布主要与匀胶时间和速度有关,而与加速度的关系较小.因此,当选用匀胶转速为5 000 r/min、时间为30 s时,薄膜应力分布最优,成膜质量最佳,能够满足压印光刻工艺中300 nm级图型的保真复型需求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢秉恒	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	387	5973	36.0	56.0
2	丁玉成	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	128	1941	23.0	39.0
3	刘红忠	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	46	349	10.0	16.0
4	尹磊	西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室	6	20	3.0	4.0