原文服务方: 西安交通大学学报       
摘要:
针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求,对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析,并采用基片曲率法的Stoney公式及其近似计算公式,对不同参数环境下的薄膜应力及应力梯度分布作了计算分析.通过对比几组试验参数的应力分析结果,验证了薄膜应力的大小和应力梯度的分布主要与匀胶时间和速度有关,而与加速度的关系较小.因此,当选用匀胶转速为5 000 r/min、时间为30 s时,薄膜应力分布最优,成膜质量最佳,能够满足压印光刻工艺中300 nm级图型的保真复型需求.
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内容分析
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文献信息
篇名 紫外光固化中阻蚀胶薄膜应力分析及成膜控制
来源期刊 西安交通大学学报 学科
关键词 压印光刻 阻蚀胶 基片曲率法 薄膜应力 成膜控制
年,卷(期) 2006,(9) 所属期刊栏目 专题研究
研究方向 页码范围 1028-1031
页数 4页 分类号 TH112|TH113.1
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-987X.2006.09.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 卢秉恒 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室 387 5973 36.0 56.0
2 丁玉成 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室 128 1941 23.0 39.0
3 刘红忠 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室 46 349 10.0 16.0
4 尹磊 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室 6 20 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
压印光刻
阻蚀胶
基片曲率法
薄膜应力
成膜控制
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
西安交通大学学报
月刊
0253-987X
61-1069/T
大16开
1960-01-01
chi
出版文献量(篇)
7020
总下载数(次)
0
总被引数(次)
81310
相关基金
中国博士后科学基金
英文译名:China Postdoctoral Science Foundation
官方网址:http://www.chinapostdoctor.org.cn/index.asp
项目类型:
学科类型:
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
国家重点基础研究发展计划(973计划)
英文译名:National Basic Research Program of China
官方网址:http://www.973.gov.cn/
项目类型:
学科类型:农业
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