TiAl合金微弧氧化膜的制备及抗氧化性能研究

• 作者: 吴晓玲 李夕金 程云君 程国安 薛文斌 郑瑞廷
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 TiAl 显微硬度 高温氧化
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 95-99
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.2|TG174.45
• 字数: 4031字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-6264.2006.05.023

摘要

利用微弧氧化的方法在γ-TiAl合金上制备陶瓷膜,探讨了氧化过程中电流密度与成膜速度的关系.利用扫描电镜研究了氧化膜的表面形态和截面结构,结果表明,氧化膜由三层组成,且氧化膜与基体间有良好的冶金结合;物相分析发现氧化膜中含有金红石、Al2 TiO5和SiO2非晶成分,并且物相组成和分布与成膜时间及膜的深度无关;氧化膜的硬度随着氧化时间的增加而增加,极大值出现在距离膜基交界面约10μm附近的氧化膜中.1100℃下的高温氧化实验发现微弧氧化处理后样品的氧化速度只有原始基体材料的1/3,微弧氧化处理后提高了TiAl合金的抗氧化性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛文斌	北京师范大学材料科学与工程系射线束技术及材料改性教育部重点实验室	37	1416	17.0	37.0
2	李夕金	北京师范大学材料科学与工程系射线束技术及材料改性教育部重点实验室	6	86	6.0	6.0
3	吴晓玲	北京师范大学材料科学与工程系射线束技术及材料改性教育部重点实验室	16	162	9.0	12.0
4	程国安	北京师范大学材料科学与工程系射线束技术及材料改性教育部重点实验室	28	204	9.0	13.0
5	郑瑞廷	北京师范大学材料科学与工程系射线束技术及材料改性教育部重点实验室	15	119	6.0	10.0