红外增透与保护膜技术的研究

• 作者: 付新华 付秀华 王崇娥 董连和
• 来源期刊: 激光与红外
• 学科: 工学
• 关键词: 红外增透膜 保护膜 离子辅助沉积 吸收损失 剩余反射率
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 1162-1164
• 页数: 3页
• 分类号: TN213
• 字数: 1546字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5078.2006.12.024

摘要

采用电子束与离子辅助沉积技术,在氟化镁晶体材料上制备3.5～4.9μm增透与保护膜.经过实验,选取氧化钛与二氧化硅作为薄膜材料,并优化沉积工艺参数,尽可能减少吸收损失,对氟化镁基底实现有效的增透和保护.实验结果表明,镀膜后其单面剩余反射率由未镀膜时的2.5%减少到1.2%,并能承受湿热和雨淋测试.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付秀华	长春理工大学光电工程学院	141	525	11.0	15.0
2	董连和	长春理工大学光电工程学院	45	151	7.0	11.0
3	付新华	长春理工大学光电工程学院	9	52	4.0	7.0
4	王崇娥	长春理工大学光电工程学院	4	40	2.0	4.0