LPCVD法制备碳纳米管薄膜及其场发射性能的研究

• 作者: 孙卓 王莉莉 郭平生 陈婷 黄素梅
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜光学 碳纳米管 低压化学气相沉积 扫描电镜 拉曼光谱 温度
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 777-782
• 页数: 6页
• 分类号: TB34
• 字数: 5272字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2006.05.027

摘要

采用低压化学气相沉积法(LPCVD)在镍片上直接制备碳纳米管(CNTs)薄膜,系统地研究了生长温度(500～800℃)对碳纳米管薄膜形貌、结构及场发射性能的影响,并对此方法的生长机理进行了分析.当温度从500℃升高到650℃时,碳纳米管的生长速率随着温度升高而增大,而温度继续上升,速率则明显减小.利用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱仪表征和检测了碳纳米管薄膜的形貌和结构.碳纳米管的管径、长度、一致性和晶化程度随温度都有明显的变化.同时还对碳纳米管薄膜的场发射特性进行了测试,对其场发射机理进行了深入地探讨,表明温度对碳纳米管的性能有很大影响,并存在最优化的温度条件.实验结果表明碳纳米管薄膜的形貌、结构及其场发射性能可通过生长温度进行一定范围的控制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭平生	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	5	68	5.0	5.0
2	孙卓	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	39	200	8.0	11.0
3	陈婷	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	23	78	5.0	8.0
4	黄素梅	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	5	38	3.0	5.0
5	王莉莉	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	3	27	3.0	3.0