表面形貌特殊的碳纳米管薄膜及其场发射增强

• 作者: 冯涛 孙卓 张哲娟 林丽锋 王莉莉 郭平生 阙文修 陈婷 陈弈卫
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 场发射显示 碳纳米管 场发射 表面形貌
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 283-287
• 页数: 5页
• 分类号: TN873.95
• 字数: 1344字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2007.03.010

摘要

采用磁控共溅射法在Si片表面镀NiTi膜作为碳纳米管生长的催化剂,制备出表面形貌特殊的碳纳米管薄膜,如"丘状"和"星状"的表面微结构.通过扫描电子显微镜对碳纳米管薄膜的形貌进行表征,采用二极管形式测试了碳纳米管薄膜的场发射性能.实验结果表明,这两种碳纳米管薄膜都具有优异的场发射性能,10μA/cm时的开启电场分别仅为1.02 V/btm和1.15 V/μm,在外加电场为2.4 V/μm时的电流密度分别达到4.32 mA/cm2和6.88 mA/cm2.通过场发射FN的曲线计算得到的场发射增强因子分别为10 113和6 840.这两种碳纳米管薄膜优异的场发射性能与其表面的微结构有关.表面的粗糙结构增强了部分碳纳米管的局域电场,易于发射电子.