混合基钡钨阴极优良性能的研究

• 作者: 吴华夏 张红卫 贺兆昌
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 混合基钡钨阴极 发射电流密度 理查逊公式 计算机模拟法(Muller法)
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 121-123,137
• 页数: 4页
• 分类号: TN0462
• 字数: 2173字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2006.01.034

摘要

混合基钡钨阴极在1050℃时,电流密度约为8A/cm2以上,是普通钡钨阴极(B型或S型)的3至4倍,而且其寿命比普通钡钨阴极(B型或S型)高一个量级.文中用理查逊公式的推导和计算机模拟法(Muller法)解释了混合基钡钨阴极的优良性能.尤其是建立在去极化模型和集簇法基础上的计算机模拟法(Muller法)更是从微观上解释了混合基钡钨阴极的大发射性能,特别是Os-W(hcp)合金基底.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴华夏		8	31	3.0	5.0
2	贺兆昌		20	84	6.0	9.0
3	张红卫		4	11	2.0	3.0