等离子体微弧氧化技术及其发展

• 作者: 杨世彦 赵玉峰 韩明武
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体微弧氧化 表面改性 陶瓷膜层 应用
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 新材料新技术
• 页码范围: 102-104
• 页数: 3页
• 分类号: TG178
• 字数: 4905字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2006.06.027

摘要

等离子体微弧氧化技术是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜层的材料表面改性技术.详细介绍了等离子体微弧氧化技术的发展历史和研究现状,以及应用微弧氧化技术制备陶瓷膜的基本原理和制备方法,对微弧氧化技术的特点及应用进行了总结,并阐述了微弧氧化技术的研究动态和存在的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩明武	哈尔滨工业大学电气工程及自动化学院	18	218	6.0	14.0
2	杨世彦	哈尔滨工业大学电气工程及自动化学院	60	667	14.0	24.0
3	赵玉峰	哈尔滨工业大学电气工程及自动化学院	14	199	7.0	14.0