微结构参数对多孔硅层热绝缘性能的影响

• 作者: 张伟 张绪瑞 杨海波 胡明
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 多孔硅 厚度 孔隙率 微晶粒尺寸 电化学腐蚀 显微拉曼光谱 热导率 绝热性
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 微纳材料制备、表征与性能
• 页码范围: 2359-2361,2364
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 字数: 3054字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.278

摘要

研究了多孔硅层厚度,孔隙率以及多孔硅中微晶粒尺寸三个微结构参数对其热绝缘性的影响机制.实验选用p+,p-两种掺杂浓度的硅片基底,采用电化学腐蚀法,通过改变腐蚀时间和腐蚀电流密度获得不同微结构参数的多孔硅层.分别采用显微拉曼光谱法及测量显微镜聚焦法测量了样品的热导率和厚度.研究发现,多孔硅层厚度影响热量传输路径,而孔隙率和微晶粒尺寸通过降低热导率从而使多孔硅的绝热性增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张伟	天津大学电子信息工程学院	127	1215	17.0	28.0
2	胡明	天津大学电子信息工程学院	139	1336	19.0	28.0
3	杨海波	天津大学电子信息工程学院	13	72	4.0	8.0
4	张绪瑞	天津大学电子信息工程学院	6	27	3.0	5.0