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世界半导体业未来发展特征浅释
世界半导体业未来发展特征浅释
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摘要：
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半导体工艺新发展概述
半导体工艺
应变硅
栅介质
铜互连
未来半导体材料在柔性显示屏技术中的创新与应用
半导体材料
柔性显示屏
材料应用
应用创新
半导体制冷材料的发展
珀耳帖效应
半导体制冷
半导体材料
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期刊影响力
电子产品世界
主办单位：
中国科学技术信息研究所(ISTIC)
美国国际数据集团(IDG)
出版周期：
月刊
ISSN：
1005-5517
CN：
11-3374/TN
开本：
大16开
出版地：
北京市复兴路15号138室
邮发代号：
82-552
创刊时间：
1993
语种：
chi
出版文献量（篇）
11765
总下载数（次）
14
总被引数（次）
19602
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