硅烷流量对硅烷热CVD法制备纳米硅粉的影响

• 作者: 姚奎鸿 汪新颜 王勇 金达莱 马照军
• 来源期刊: 浙江理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅烷 热CVD 流量 硅粉
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 纳米材料
• 页码范围: 545-548
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 2294字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-3851.2007.05.009

摘要

纳米硅粉的制备方法很多,但采用硅烷(SiH4)热CVD法制备纳米硅粉较于其它方法有很多优势.文章研究了在特定的温度和压力下硅烷流量对硅粉制备的影响,并对制得的硅粉进行XRD、SEM和粒径分析表征,从而获得硅烷热CVD法制备硅粉一些关于硅烷流量等关键控制参数,为该法多参数优化控制以及将来的大规模工业应用做准备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王勇	浙江理工大学材料工程中心	33	187	9.0	12.0
2	金达莱	浙江理工大学材料工程中心	37	115	6.0	10.0
3	姚奎鸿	浙江理工大学材料工程中心	47	201	10.0	12.0
4	汪新颜	浙江理工大学材料工程中心	7	12	2.0	3.0
5	马照军	浙江理工大学材料工程中心	9	28	2.0	5.0