化学腐蚀法制备纳米多孔硅及其表面形貌表征

• 作者: 刘玉存 柴涛 袁俊明 陈雪飞
• 来源期刊: 火炸药学报
• 关键词: 材料科学 多孔硅粉 表面形貌 含能材料 化学腐蚀法
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 页码范围: 86-88,93
• 页数: 4页
• 分类号: TJ55|X93
• 语种: 中文

摘要

采用化学腐蚀法制备了纳米多孔硅粉.利用扫描电子显微镜对多孔硅粉的表面形貌进行了表征.结果表明,在HNO3浓度、反应时间和HNO3滴加时间3种因素中,HNO3浓度对硅粉的腐蚀效果影响最大；浓度过高或者较低时,均不能获得良好的硅粉形貌.HNO3质量分数以20％～25％为宜.反应时间对硅粉结构和形貌的影响比硝酸的滴加速率大.在较低HNO3浓度条件下,延长反应时间对硅粉进行腐蚀更为有效.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉存	中北大学化工与环境学院	198	1083	16.0	22.0
2	柴涛	中北大学化工与环境学院	68	348	9.0	15.0
3	袁俊明	中北大学化工与环境学院	47	159	7.0	9.0
4	陈雪飞	中北大学化工与环境学院	3	6	1.0	2.0