电沉积制备铜钴颗粒膜

• 作者: 国栋 杨中东 樊占国 田昂 赵林
• 来源期刊: 材料与冶金学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 沉积条件 铜钴颗粒膜 组成
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 材料制备
• 页码范围: 279-284
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 字数: 4345字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-6620.2007.04.009

摘要

采用电沉积方法制备了铜钴巨磁电阻功能膜,研究了电沉积工艺参数,包括镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度等对铜钴颗粒膜层的组成的影响.用扫描电镜、金相显微镜、EDX能谱仪和XRD分析了镀层组成、表面形貌和结构.膜层的组成成分、晶粒大小与镀液的主盐离子浓度、配合剂浓度、pH值以及沉积时的电流密度有着直接的联系.镀液中钴离子浓度增大时,镀层中的钴含量相应的提高,镀层结晶更加粗大.镀层中铜离子浓度增大时,镀层中的铜含量提高,镀层结晶变得致密.配合剂柠檬酸钠浓度增加对镀层中钴的含量起到一定的抑止作用,而对铜的沉积则有促进作用,同时颗粒膜层结晶更加致密.低pH值下有利于铜的沉积,但此时镀层的晶粒较为粗大.控制电流密度可以改变镀层的组成,较高的电流密度有利于钴的沉积.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	樊占国	东北大学材料与冶金学院	87	611	14.0	19.0
2	杨中东	东北大学材料与冶金学院	38	430	13.0	19.0
3	赵林	东北大学材料与冶金学院	10	83	5.0	9.0
4	田昂	东北大学材料与冶金学院	13	50	4.0	6.0
5	国栋	东北大学材料与冶金学院	5	105	5.0	5.0